2020年集成电路用光刻机出货约410台，EUV方面还是ASML(ASML.US)独占鳌头

本文转自“芯思想 ”。

数据表明，2020年全球集成电路、面板、LED用光刻机出货约580台，较2019年增加30台。其中集成电路制造用光刻机出货约410台;面板、LED用光刻机出货约170台。

一、前三大出货情况

2020年，前三大ASML(ASML.US)、Nikon(NINOY.US)、Canon(CAJ.US)的集成电路用光刻机出货达413台，较2019年的359台增加54台，涨幅为15%。

从EUV、ArFi、ArF三个高端机型的出货来看，2020年共出货143台，较2019年的154台下滑7%。其中ASML出货121台，占有85%的市场，较2019年增加1个百分点;Nikon出货22台，占有15%的市场，较2019年减少1个百分点。

EUV方面还是ASML独占鳌头，市占率100%;ArFi方面ASML市占率高达86%，较2019年减少2个百分占;ArF方面ASML占有67%的市场份额，较2019年增加4个百分点;KrF方面ASML也是占据71%的市场份额，较2019年增加8个百分点;在i线方面ASML也有27%的市场份额。

从总营收来看，2020年前三大ASML、Nikon、Canon的光刻机总营收达988亿元人民币，较2019年小幅增长4.6%。从营收占比来看，ASML占据79%的份额，较2019年增加5个百分点。ASML在2020年各型号光刻机出货数量增长13%，且高端机台EUV的出货量增加了5台，也使得总体营收增长超过10%。

ASML

2020年ASML光刻机营收约780亿元人民币，较2019年成长10.8%。

2020年ASML共出货258台光刻机，较2019年229年增加29台，增长13%。其中EUV光刻机出货31台，较2019年增加5台;ArFi光刻机出货68台，较2019年减少14台;ArF光刻机出货22台，和2018年持平;KrF光刻机出货103台，较2019年增加38台;i-line光刻机出货34台，和2019年持平。

2020年ASML的EUV光刻机营收达350亿元人民币，占光刻机整体收入的45%，较2019年增加133亿元人民币。2020年单台EUV平均售价超过11亿元人民币，较2019年单台平均售价增长35%。从2011年出售第一台EUV机台以来，截止2020年第四季出货超过100台，达101台。且EUV机台单价越来越高，据悉，2020年第四季接获得的6台总额达86亿人民币，单台价格超过14亿人民币。

2020年来自中国的光刻机收入占比18%，超过140亿人民币，表明中国内地各大FAB至少共搬入30台以上光刻机。

Nikon

2020年度，Nikon光刻机业务营收约120亿元人民币，较2019年下滑23%。

2020年度，Nikon集成电路用光刻机出货33台，较2019年减少13台。其中ArFi光刻机出货11台，和2019年度持平;ArF光刻机出货11台，较2019年度减少2台;KrF光刻机出货2台，较2017年度减少2台;i-line光刻机出货9台，较2019年度减少9台。

2020年度，Nikon全新机台出货26台，翻新机台出货7台。

2020年，Nikon面板(FPD)用光刻机出货20台，较2019年下跌50%。但面板用光刻机主要是10.5代线用光刻机出货，共出货13台。

Canon

2020年，Canon光刻机营收约为88亿元人民币，较2019年下降约7%。

2020年，Canon半导体用全部是i-line、KrF两个低端机台出货，光刻机出货量达122台，较2019年出货增加38台，增幅32%，其中i-line机台是出货的主力，得益于化合物半导体和板级封装的发展。

2020年7月，Canon针对板级封装推出i线步进式光刻机FPA-8000iW，可对应尺寸最大到515×510mm大型方形基板的能力。据悉佳能自主研发的投影光学系统可实现52×68mm的大视场曝光，达到了板级基板封装光刻机中高标准的1.0微米解像力，将极大推动追求高速处理的AI芯片、HPCR的封装。

佳能还将在2021年3月出货新式i线步进式光刻机“FPA-3030i5a”，可以对硅基以及SiC(碳化硅)和GaN(氮化镓)等化合物半导体晶圆，从而实现多种半导体器件的生产制造。

2020年2月正式出货FPA-3030iWa型光刻机，采用的投影透镜具有52毫米x52毫米的广角，NA可从0.16到0.24范围内可调。新设备可以在2英寸到8英寸之间自由选择晶圆尺寸的处理系统，方便支持各种化合物半导体晶圆，可运用在未来需求增长的汽车功率器件、5G相关的通信器件、IoT相关器件(如MEMS和传感器等)的制造工艺中。

2020年，Canon面板(FPD)用光刻机出货32台，较2019年出货量减少18台，下滑36%。

二、其他公司出货

上海微电子SMEE

上海微电子装备(集团)股份有限公司光刻机主要用于广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD、MEMS、LED、功率器件等制造领域，2020年出货预估在60+台，较2019年增加约10台，主要集中在先进封装、LED方面，在FPD领域也有出货。

不错，我国正在协力攻关193nm

DUV光刻机和浸没式光刻机，在先进没光刻机方面进展还是相当快。至于网上流传的上海微电子将在2021年交付28纳米光刻机一事，芯思想研究院认为不要很乐观，但也不要悲观。能成功交付当然是好事，不能按时交付媒体也不要去喷。

SUSS

德国SUSS光刻机主要用于半导体集成电路先进封装、MEMS、LED，2020年光刻机收入约7.8亿元人民币，较2019年成长10%。

VEECO(VECO.US)

2020年公司来自先进封装、MEMS和LED用光刻机的营收约为4亿元人民币，较2019年成长30%。预估销售台数在30台以内。

EVG

公司的光刻设备主要应用于先进封装、面板等行业，当然公司也出售对准仪等。

三、ASML EUV进展

从2018年以来，ASML一直在加速EUV技术导入量产;二是实验以0.55 NA取代目前的0.33

NA，具有更高NA的EUV微影系统能将EUV光源投射到较大角度的晶圆，从而提高分辨率，并且实现更小的特征尺寸。

2020年10月，ASML公布新一代TWINSCAN NXE: 3600D的参数和规格。NXE: 3600D套刻精度提升至1.1nm，曝光速度30

mJ/cm2，每小时曝光160片晶圆。而NXE: 3400C的套刻精度为1.5nm，曝光速度20mJ/cm2，每小时可曝光170片晶圆;更早的NXE:

3400B的套刻精度为2nm、曝光速度20mJ/cm2，每小时可曝光125片晶圆。不过NXE: 3600D最快也要到2021年第二季发货。

从2011年出售第一台EUV机台以来，截止2020年第四季出货101台。且EUV机台单价越来越高，据悉，2020年第四季接获得的6台总额达86亿人民币，单台价格超过14亿人民币。

预估2022年将推出0.55 NA的新机型EXE:5000样机，可用于1纳米生产，按照之前的情况推测，真正量产机型出货可能要等到2024年。当然0.55

NA镜头的研发进度也会影响新机型的出货时间。 2020年ASML全年出货31台EUV光刻机，没有达到预期的35台，也许和2020年的新冠疫情有关。

四、Canon NIL发展

针对

7纳米米以下节点，ASML的重点是EUV，同时也向客户出售ArF浸没系统，ArF浸没系统可与多种曝光工艺配合使用，将DUV光刻技术扩展到7纳米以下;而Nikon只推ArF浸没系统。

Canon押注纳米压印(Nanoimprint Lithography，NIL)，该技术来源于佳能2014年收购的Molecular Imprints。

最新的纳米压印(NIL)的参数指标不错，套刻精度为2.4nm/3.2nm，每小时可曝光超过100片晶圆。

据悉，纳米压印(NIL)已经达到3D

NAND的要求，日本3D NAND大厂铠侠(Kioxia，原东芝存储部门)已经开始96层3D NAND中使用此技术。在3D NAND之外 也可以满足1Anm

DRAM的生产需求。

(编辑：李均柃)