苏大维格：公司主要在AMOLED用镂空掩模版领域进行了技术研发与布局

有投资者在投资者互动平台提问：公司中报披露贵公司承担了江苏省关键核心技术攻关项目“面向IC掩膜版和微纳光学器件制备的高精度光刻直写设备”中的IC掩膜版，是集成电路光刻机用掩膜版吗？项目进展的怎么样了？

苏大维格(300331.SZ)9月9日在投资者互动平台表示，您好，现阶段，公司主要在AMOLED用镂空掩模版领域进行了技术研发与布局。谢谢！

（文章来源：每日经济新闻）

文章来源：每日经济新闻