解密美光最新 1α内存工艺:性能提升 40%,与三星掰手腕

观点
2021
01/29
08:36
亚设网
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美光本周二公布其用于 DRAM 的 1α新工艺,该技术有望将 DRAM 位密度提升 40%,功耗降低 15%。

解密美光最新 1α内存工艺:性能提升 40%,与三星掰手腕

1α工艺最初被用于生产 DDR4 和 LPDDR4 内存,未来或将覆盖美光所有类型的 DRAM。

同时,美光提到要实现 DRAM 的规模化仍很困难。鉴于 EUV 技术带来的性能优化还无法抵消设备成本和生产困难,美光近期不打算引入 EUV 光刻技术,考虑在未来的 1

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