南大光电毛智彪博士谈 ArF 光刻胶国产化的机遇和挑战

11 月 1 日至 3 日，第 24 届中国集成电路制造年会暨供应链创新发展论坛在广州成功举办，宁波南大光电材料有限公司毛智彪博士在会上发表以《ArF 光刻胶国产化的机遇和挑战》为主题的演讲。

毛智彪博士表示，从国内 IC 光刻胶供应现状来看，国内 IC 光刻胶基本依赖从日本和美国进口，而美国对中国的贸易限制和日本光刻胶企业产能短缺对国内集成电路制造企业产生了较大影响，这导致国内集成电路制造企业亟需稳定的光刻胶供应。

当前，国外光刻胶供应不稳定问题极大地带动了光刻胶国产替代的需求。同时，伴随着汽车电子和 5G 等新应用持续扩大，国内 IC 光刻胶市场需求进一步增长。

值得注意的是，毛智彪博士指出，国产 IC 光刻胶还面临着四大挑战：

一是本土人才缺乏，需要引进人才和自主培养人才。

二是光刻胶产品检测验证成本高昂，国内缺少必须的检测验证能力。

三是国产替代的现实决定了现阶段国产光刻胶产品的客制化特性。

四是国内缺少光刻胶材料产业链，缺少对光刻胶原材料的研发。

据毛智彪博士介绍，光刻胶的原材料主要包括溶剂、成膜树脂、光致酸剂、抑制剂，其中最难做的材料就是成膜树脂，不但要用于成膜，而且决定了光刻胶产品的光刻性能和刻蚀性能。而树脂是高分子材料，需要对纳米级材料的控制，对微观领域有深刻的理解才能做到光刻胶的材料。

毛智彪博士指出，国产光刻胶需要建立起从原材料到光刻胶产品的产业链，并且持续投入对原材料的研发，才能支撑起长久健康的发展。

目前，宁波南大光电已初步开发成功 ArF 光刻胶产品体系，建成了光刻胶生产和检测基地，培养了一支基础的人才队伍。

毛智彪博士表示，作为光刻胶领域的后起之秀，南大光电仍然面临严峻挑战，还有很长的上山路需要攀登，需要更多的优秀人才加入我们的团队，共同打造国产光刻胶的未来。