IT之家 3 月 29 日消息,3 月 29 日,清华大学发布了等离子体刻蚀机采购项目公开招标公告。
该公告显示,清华大学现对等离子体刻蚀机采购项目进行国内公开招标,欲采购 1 套等离子体刻蚀机,采购预算为 165 万元。
设备用途介绍 :
该等离子体刻蚀机用于刻蚀薄膜铌酸锂晶圆,从而加工基于薄膜铌酸锂晶圆的电光器件。
简要技术指标 :
真空系统:★分子泵抽速≥1300L / s,干泵抽速≥100m3 / h;
下电极:★满足 8 英寸样品刻蚀需要,更小样品或碎片可贴片装载;
软件和控制系统:★自主版权的软件,Windows 操作系统软件;
机台工艺能力:★主要用于刻蚀薄膜铌酸锂材料、介质材料等。