拓荆科技(688072)是本土半导体薄膜沉积设备龙头，产品覆盖等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、次常压化学气相沉积(SACVD)设备和原子层沉积(ALD)设备，其中PECVD和SACVD是国内唯一一家产业化应用企业，打破了国外厂商在国内的垄断，相关产品成功供货中芯国际、华虹集团、长江存储等主流客户。2022年1-5月，拓荆科技在国内薄膜沉积设备中标份额快速上升到14%，领先于其他国内厂商。近年公司业绩实现快速增长，2018-2021年公司营业收入CAGR为121%，2021-2022年一季度毛利率分别为44.01%和47.44%，增幅明显，且存在较大提升空间。公司在手订单充裕，未来成长性与确定性兼备。
薄膜沉积设备市场空间大，需求强劲。半导体行业景气带动设备稳定增长，薄膜沉积是关键设备，市场规模占半导体设备的20%。根据Maximize Market
Research数据统计，2021年全球薄膜沉积设备市场规模为190亿美元，同比+10.5%，预计2025年有望达到340亿美元，2021-2025年CAGR达15.7%。行业基本由应用材料(AMAT)、先晶半导体(ASMI)、泛林半导体(LAM)、东京电子(TEL)等国际巨头垄断，国产替代空间较大。未来随着晶圆厂扩产带动设备需求、芯片制程升级，薄膜沉积设备需求量增加、国产替代，国内薄膜沉积设备厂商将迎来黄金发展机遇。
公司技术实力强大，具备稀缺性，客户资源优质，成长动力充足。公司重视研发，高研发投入，掌握核心技术，公司产品总体性能和关键性能参数已达到国际同类设备水平。公司在稳固PECVD市场竞争力的同时，SACVD&ALD也持续取得产业化突破，成长空间不断打开。(1)PECVD设备：公司核心产品，在国内市占率依然较低，公司PECVD已全面覆盖逻辑、DRAM存储、FLASH闪存各技术节点通用介质薄膜，并在14nm及10nm以下制程积极配合客户产业验证，随着客户验证顺利推进，有望延续高速增长;(2)SACVD设备：适用于45-10nm沟槽填充，先进制程下渗透率存在提升趋势，公司产品体系不断完善，2020年以来客户验证机台快速增加，有望进入放量阶段;(3)ALD设备：膜厚精准可控，台阶覆盖率极高，技术优势突出，公司率先实现PE-ALD产业化，同时布局Thermal-ALD，IPO募投项目将助力大规模产业化进程。
进军先进制程，公司逐步成长为薄膜沉积平台型公司。公司IPO募集资金将投资于高端半导体设备扩产项目、先进半导体设备的技术研发与改进项目、ALD设备研发与产业化项目。截至2021年9月，公司在国内外和其他地区已授权专利共计169件，核心技术有8项，其中大部分专利和核心技术可以在PECVD、ALD、SACVD这三种产品上适用。公司募投项目的投资建设将进一步增强公司在先进制程薄膜沉积设备的实力。
东吴证券表示，公司在集成电路PECVD和SACVD领域先发优势明显，ALD设备同样是国内领先，有望充分受益于本土晶圆厂扩产浪潮。预计2022-2024年公司营业收入分别为12.64亿元、18.61亿元和25.78亿元。公司PECVD稀缺性显著，叠加SACVD&ALD放量，成长性突出，首次覆盖，给予“买入”评级。
华创证券表示，全球半导体设备市场持续高景气，公司显著受益于薄膜沉积设备需求增长，充分受益于国产替代机遇。预测2022-2024年公司营业收入分别为15.0亿元、21.9亿元、30.3亿元，结合公司所处百亿赛道市场空间、行业平均估值水平以及更纯正的半导体业务结构，给予2022年15倍PS估值，对应目标价为178.1元/股，首次覆盖给予“强推”评级。记者
刘希玮
加载中,请稍侯......