imec 推出 N2 节点设计探路“教程”文档，降低研究人员接触尖端制程门槛

IT之家 2 月 20 日消息，比利时半导体研究机构 imec 近日推出了开放式 N2 节点设计探路 PDK（IT之家注：全称 Process Design Kit，描述半导体工艺技术细节的文档套件）。

这一 PDK 面向学术界和工业界的开发人员，支持包括背面供电网络在内的 imec 的 N2 节点虚拟数字设计。

▲ imec 相关宣传图片imec 表示，传统的晶圆代工 PDK 存在准入有限和需求保密协议的不足，为学术界和工业界在开发过程中访问先进技术节点创造了很高的门槛，而设计探路 PDK 的开放形式可让研究人员尽快上手。

imec 的 N2 节点设计探路 PDK 包含基于一组数字标准单元库和 SRAM IP 宏的数字设计所需的基础设施。未来，该 PDK 平台还将扩展到 A14 等更先进的节点。

imec 还为 N2 节点设计探路 PDK 推出了配套培训计划，该计划将于二季度初启动，向新一代芯片设计者传授 N2 技术节点的特殊性。

imec 逻辑技术副总裁 Julien Ryckaert 表示：“如果我们想吸引新一代芯片设计人员，我们必须为他们提供早期访问所需的基础设施，以便在最先进的技术节点上发展他们的设计技能。随附的培训课程将使这些设计人员尽快上手，并让他们熟悉最新的颠覆性技术，如纳米片器件和晶圆背面技术。设计探路 PDK 还将帮助公司将其设计过渡到未来的技术节点，并预防其产品的扩展瓶颈。”

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