IT之家 3 月 12 日消息,英特尔高级副总裁安妮・凯莱赫(Anne Kelleher)近日出席 SPIE 2024 会议,透露 Intel 14A 工艺节点的性能功耗比(Performance per watt),会比 Intel 18A 提高 15%,而后续增强的 14A-E 工艺在普通 14A 节点的基础上再增加 5%。
凯莱赫表示 Intel 14A 工艺率先使用 High-NA EUV 光刻技术,因此晶体管逻辑密度比 Intel 18A 提高了 20%。
英特尔公司正在积极推进 IDM 2.0 战略,希望在 2030 年之前超越三星,重新夺回代工行业的领先地位,目前总订单规模超过 150 亿美元(IT之家备注:当前约 1077 亿元人民币)。英特尔公司此前发布公告,已经和微软公司达成合作,采用 Intel 18A 工艺为其生产芯片。
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