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High-NA EUV 光刻导致单芯片最大面积减半，imec、英特尔各想办法

观点 / ·2024-02-29 22:30

IT之家2月29日消息，下一代光刻技术High-NAEUV即将在未来数年中投入使用，但其目前面临单芯片最大面积减半的问题。为此英特尔和比...

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