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美光加速 EUV 技术攻坚，1γ DRAM 工艺目标 2025 年量产
观点 / ·2024-06-27 20:30
IT之家6月27日消息，不同于其他半导体龙头，美光并不急于为DRAM引入 EUV光刻技术，因此该公司目前所有量产芯片都是采用DUV光刻机...
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代工一哥直呼太贵，台积电考虑 A16 节点不用 ASML 的 High-NA EUV 设备
观点 / ·2024-05-15 14:30
IT之家5月15日消息，台积电张晓强博士于5月14日出席在阿姆斯特丹举办的技术研讨会，他直言：“ASML的High-NAEUV太贵了，我非常喜...
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英特尔包圆 ASML 初始产能，获得今年全部高数值孔径 EUV 光刻机
观点 / ·2024-05-08 08:30
IT之家5月8日消息，英特尔近日宣布完成世界首台商用高数值孔径（HighNA）EUV光刻机的安装，而这台耗资约3.5亿美元（IT之家备注：...
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阿斯麦 High-NA EUV 光刻机取得重大突破，成功印刷 10 纳米线宽图案
观点 / ·2024-04-18 10:30
IT之家4月18日消息，荷兰阿斯麦(ASML)公司宣布，其首台采用0.55数值孔径(NA)投影光学系统的高数值孔径(High-NA)极紫外(EUV)光刻机...
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ASML 新款 NXE:3800E EUV 光刻机引入部分 High-NA 机型技术，晶圆吞吐量提升近 22%
观点 / ·2024-03-27 12:30
IT之家3月27日消息，据荷兰媒体Bits&Chips报道，ASML官方确认新款0.33NAEUV光刻机——NXE:3800E引入了部分High-NAEUV光刻机的...
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美光宣布 1-gamma EUV 内存已试生产，下一代闪存目标 2025 年量产
观点 / ·2024-03-22 12:30
IT之家3月22日消息，美光于近日发布了截至2月29日的2024财年第二财季财报，配套的演示文稿中对其DRAM内存和NAND闪存的未来与现状...
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ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装
观点 / ·2024-03-13 12:30
IT之家3月13日消息，光刻机制造商ASML宣布其首台新款EUV光刻机TwinscanNXE:3800E已完成安装，新机型将带来更高的生产效率。
观点
三星研究员悲观看待 EUV 光刻技术寿命，认为 High-NA 方案面临成本问题
观点 / ·2024-03-08 18:30
IT之家3月8日消息，三星研究员YoungSeogKang在近日举行的SPIE先进光刻+图案化会议的小组讨论中对EUV技术的寿命持有悲观看法，认为...
观点
250 名工程师耗时 6 个月安装，英特尔展示 ASML 首台 High-NA EUV 光刻机交付过程
观点 / ·2024-03-05 14:30
IT之家3月5日消息，英特尔携手ASML宣布高数值孔径HighNAEUV光刻机实现“初次曝光”里程碑后，近日再次分享了一段视频，展示了在英...
观点
High-NA EUV 光刻导致单芯片最大面积减半，imec、英特尔各想办法
观点 / ·2024-02-29 22:30
IT之家2月29日消息，下一代光刻技术High-NAEUV即将在未来数年中投入使用，但其目前面临单芯片最大面积减半的问题。为此英特尔和比...
观点
英特尔 CEO 基辛格：不会放弃使用外部代工，High-NA EUV 将于下一个“Major”节点导入
观点 / ·2024-01-30 18:30
IT之家1月30日消息，近日英特尔CEO帕特・基辛格（PatGelsinger）在季度电话财报会议上回应了分析师有关外部代工与High-NAEUV应用...
观点
英特尔率先拥抱 High-NA EUV 光刻机，台积电持观望态度
观点 / ·2024-01-07 16:30
IT之家1月7日消息，芯片巨头英特尔近日喜获业内首台具有0.55数值孔径（High-NA）的ASML极紫外（EUV）光刻机，将助力其在未来几年...

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